第218章 关键技术取得突破（1/2）
2015年8月5日清晨，伏羲实验室的光刻机总装车间内，弥漫着淡淡的金属与润滑油混合的气味。陈研究员戴着白色手套，正用扭矩扳手仔细固定物镜系统的最后一颗螺栓，额头上渗出的汗珠沿着脸颊滑落，滴在防静电地板上，晕开一小片湿痕。“物镜系统安装完毕，同轴度误差0.001微米，符合设计要求！”调试工程师小李的声音带着抑制不住的兴奋，通过对讲机传遍整个车间。
14纳米DUV光刻机的总装工作已进入第12天，这台凝聚了23家高校、15家科研机构心血的“大国重器”，此刻正静静地矗立在车间中央——3.2米高的机身通体银白，正面镶嵌着“伏羲”二字的激光标识，内部的机械臂正以微米级的精度缓缓转动，进行着最后的空载调试。林渊站在车间角落，手里攥着一份皱巴巴的进度表，上面的每一个节点都标注着完成时间，唯有“整机联调”一栏还是空白。
“林总，EUV光源系统已完成对接，准备进行第一次光机联调！”王教授的声音从身后传来，他的白大褂上还沾着些许蓝色的光刻胶痕迹，眼底的红血丝比上周更明显了。林渊转过身，看到王教授手里捧着的测试报告，上面“光源功率稳定55W，连续运行72小时衰减率≤2%”的字样格外醒目。“好！通知各团队，十分钟后启动联调，所有参数实时上传至中央监控平台！”林渊的声音有些沙哑，却带着不容置疑的力量。
联调指令下达后，车间内立刻安静下来，只有设备运行的低鸣和键盘敲击声交织在一起。光刻胶涂布机率先启动，晶圆托盘沿着真空导轨平稳移动，喷头以每分钟0.5米的速度划过晶圆表面，形成一层厚度均匀的光刻胶薄膜。“涂布厚度300纳米，均匀性误差≤1%，正常！”涂布组组长高声汇报。紧接着，晶圆被送入曝光室，EUV光源发出的极紫外光经过物镜系统聚焦，精准投射在晶圆表面的光刻胶上。
中央监控屏幕上，实时显示着光刻图案的成像效果。当第一幅14纳米级的电路图案刷新出来时，所有人都屏住了呼吸——晶圆中心的电路线条清晰锐利，线宽误差控制在0.003微米以内，但边缘区域的图案依然存在轻微的畸变。“像差补偿算法启动，参数正在调整！”小张的手指在键盘上翻飞，屏幕上的畸变区域以肉眼可见的速度收缩。三分钟后，边缘线宽误差稳定在0.005微米，达到了设计标准。
“曝光完成，进入显影工序！”操作员按下切换键，晶圆被送入显影机。显影液均匀喷淋在晶圆表面，未曝光的光刻胶逐渐溶解，露出清晰的电路纹理。当晶圆被取出烘干后，检测工程师立刻将其放入电子显微镜下检测。“良率初步检测89%！”检测结果传来，车间里响起一阵压抑的欢呼声。陈研究员却皱起眉头：“89%还不够，离量产要求的95%还有差距，问题可能出在显影液的温度控制上。”
显影液的温度波动会直接影响光刻胶的溶解速率，进而导致良率波动。林渊立刻召集化学团队和机械团队会诊，海市交通大学的王教授提出：“我们可以采用‘双区温控’方案，将显影液的温度控制精度从±0.5℃提升至±0.1℃，同时在显影机内增加超声波搅拌装置，确保显影均匀性。”这个方案需要对显影机的温控系统进行改造，至少需要48小时。“时间不等人，马上动手！”林渊当即拍板，协调设备厂家连夜送来改造所需的精密温控模块。
改造工作在车间的临时工作区内连夜进行。机械工程师们拆卸显影机外壳时，不小心碰断了一根光纤传感器的连接线，而这种特种光纤国内没有现货，最快需要一周才能从德国采购。“用我们研发的石英光纤替代！”材料团队的张教授突然开口，他从实验室取来一卷直径0.1毫米的石英光纤，“这种光纤的透光率比德国的高3%，耐温性更好，就是接头需要重新研磨。”
研磨光纤接头的工作由经验最丰富的老技工负责，他戴着放大镜，用金刚石砂轮小心翼翼地打磨着光纤端面，每打磨一分钟就用干涉仪检测一次平整度。凌晨三点，当干涉仪显示端面平整度误差≤0.001微米时，老技工才松了口气，双手因为长时间保持稳定而微微颤抖。光纤连接完成后，显影机的温控精度达到了±0.08℃，超声波搅拌装置也安装调试完毕。
第二次联调在清晨六点启动。当晶圆完成显影检测后，检测工程师的声音带着颤抖：“良率94.5%！”这个数字让车间里的欢呼声彻底爆发出来，小陈激动地抱住身边的同事，眼泪止不住地流——他的女儿昨天刚满百天，而他已经快一个月没见过家人了。林渊走到中央监控台前，看着屏幕上稳定的参数曲线，突然想起三个月前李教授晕倒在实验台前的场景，眼眶不禁有些发热。
良率的突破并没有让团队松懈，因为刻蚀机与光刻机的协同作业还面临着新的挑战。8月8日，当两台设备首次进行联机测试时，出现了晶圆传输卡顿的问题——光刻机的出料口与刻蚀机的进料口存在0.02毫米的高度差，导致晶圆托盘在切换时发生倾斜。李工带着机械团队趴在设备下方，用激光测距仪反复测量，最终发现是地基沉降导致的设备偏移。“我们可以采用可调节式减震基座，通过液压装置实时调整设备高度。”李工提出的方案，需要三天时间进行基座改造。
改造期间，专利战的传来了好消息。海因茨博士带着专利团队走进林渊的办公室，手里拿着国际专利组织的初步裁定通知书：“ASML指控的10项专利中，7项被认定不构成侵权，剩下3项我们已经提交了更早的研发记录，证明我们的技术是独立研发的。另外，我们提出的3项专利无效宣告请求，有2项被受理，ASML的专利壁垒出现了缺口！”林渊接过通知书，看到上面“现有证据表明渊渟资本的波长锁定技术具有独创性”的字样，紧绷的神经终于放松了些许。
专利战的阶段性胜利，让资本市场重新恢复了信心。渊渟资本的股价在三个交易日内回升了18%，国家大基金宣布再次追加20亿美元投资，用于14纳米光刻机的量产线建设。更令人振奋的是，中芯国际、华虹半导体等国内晶圆厂纷纷发来合作意向函，希望成为首批国产14纳米光刻机的试用客户。“中芯国际的张总明天就来实验室考察，他们计划采购5台设备用于14纳米芯片的试生产。”赵宇拿着合作意向书，脸上洋溢着笑容。
8月11日，刻蚀机与光刻机的协同测试终于成功。当晶圆从光刻机顺利传输到刻蚀机，完成刻蚀工序后，检测结果显示电路刻蚀深度误差≤0.01微米，线宽均匀性误差≤0.004微米，协同作业良率达到95.2%。“成功了！完全达到量产标准！”李工高举着测试报告，车间里的研发人员们互相击掌拥抱，有的甚至激动地跳了起来。林渊拿出手机，拨通了李教授的电话——李教授上周刚出院，正在家中休养。“老李，良率达标了，95.2%！”电话那头传来李教授哽咽的声音：“好……好啊……我明天就回实验室！”
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